在反滲透膜的綜合操作中, 污染與清洗是一個動態(tài)平衡的全過程, 每次清洗都要保持清潔度 ,使膜運行更好。運行一段時間后 ,膜上積聚的大污染物應(yīng)及時去除,便于下次運行。如果每一次清洗落實不到位,便會開展過濾,污染會進一步積累 ,積累到反滲透膜表層過流道阻塞,清洗劑沒法滲入。同時,由于長期的壓力運行,污染物會聚集,這將極難清洗和恢復(fù)膜,從而導(dǎo)致膜損傷。冰凍三尺非一日之寒。那么水處理設(shè)備中反滲透EDI純水設(shè)備運行過程中電阻率下降的原因是什么?下面水處理耗材廠家的小編和大家一起看看吧。

1.反滲透裝置出水不過關(guān)

假如源水含鹽度高,使用雙水RO做為預(yù)除鹽,反滲透裝置的電導(dǎo)率維持在1~3μS/cm為;滲水CO2含量高,使用除氣膜或脫氣塔CO2除去。pH中性偏移太多, 選擇太多pH調(diào)整,使EDI進水pH數(shù)值7~8。在使用氣體的過程中,溶解在超純水中的二氧化碳氣體致電導(dǎo)率增加。因此在線上封閉環(huán)境下應(yīng)檢查超純水的電導(dǎo)率。

2.水凈化設(shè)備EDI系統(tǒng)軟件電流量操縱的問題

伴隨著工作電流的提高,產(chǎn)水水體不斷提升?？墒羌偃珉娏髁坑兴黾雍筇嵘?水電所產(chǎn)生的電流量也會增加。H+和OH-正離子過多, 除再生樹脂外,很多剩下正離子做為載流離子導(dǎo)電。與此同時,因為很多載流正離子在過程的累積和阻塞,乃版蔓延,產(chǎn)水水體下降。

3.pH值改變

4.EDI純水設(shè)備中鐵環(huán)境污染

5.有機物污染

ro反滲透EDI有機化學(xué)膠體溶液,純化學(xué)膠體溶液,ro只有去除相對分子量超過200的有機膠體溶液。小于200含量的進到EDI系統(tǒng)軟件。這部分低含量化學(xué)物質(zhì)被陰陰化學(xué)物質(zhì)包圍框架和陰離子交換柱吸附陽離子交換樹脂,在陽膜表面阻擋陰膜、正離子的置換反應(yīng)和水中正離子通過陰陽膜速度導(dǎo)致陽膜速度EDI特性下降,產(chǎn)水電阻率下降。

以上就是今天小編想大家分享的有關(guān)于反滲透EDI純水設(shè)備運行過程中電阻率下降的原因，希望看完之后能夠?qū)Υ蠹矣兴鶐椭Ｒ话銇碚f檸檬酸鈉、硫酸鈉、氫氧化鈉等都是常用的有機化學(xué)清洗液,不同類型的水溶液用于不同類型的污染。如果長期不能使用ro反滲透,需要把氫氧化鈉水溶液引入反滲透膜部件,以控制微生物菌種生長。